press for perfection! - dental noord · 2019-12-13 · dhtic heid . gc initial™ lisi press gc...

16
NEXT LEVEL STRENGTH & AESTHETICS Press for perfection! Initial™ LiSi Press van GC Lithium- disilicaat glaskeramiek

Upload: others

Post on 17-Jul-2020

0 views

Category:

Documents


0 download

TRANSCRIPT

Page 1: Press for perfection! - Dental Noord · 2019-12-13 · dhtic heid . GC Initial™ LiSi Press GC Initial™ LiSi Press is geoptimaliseerd voor gebruik in combinatie met het GC Initial™-aanbod,

H

DM T E C H N O L O

GY

NEXT LEVELSTRENGTH & AESTHETICS

Press forperfection!

Initial™ LiSi Press van GC

Lithium-disilicaat

glaskeramiek

Page 2: Press for perfection! - Dental Noord · 2019-12-13 · dhtic heid . GC Initial™ LiSi Press GC Initial™ LiSi Press is geoptimaliseerd voor gebruik in combinatie met het GC Initial™-aanbod,

H

DM T E C H N O L O

GY

NEXT LEVELSTRENGTH & AESTHETICS

GC Initial LiSi Press is de eerste lithiumdisilicaat ingot met High Density Micronization (HDM), een unieke technologie van GC met ongeëvenaarde fysische eigenschappen en de meest natuurlijke esthetiek van alle mogelijke perskeramiek op de huidige markt. HDM gebruikt gelijk verdeelde lithiumdisilicaat micro-kristallen om de gehele glasmatrix te vullen in plaats van traditionele grotere kristallen te gebruiken die

de matrixstructuur niet volledig benutten. Het resultaat is de ultieme combinatie van sterkte en esthetiek, waardoor GC Initial LiSi Press uitermate geschikt is voor alle soorten restauraties met alle niveaus van door zichtigheid. De cruciale HDM-technologie zorgt ervoor dat het product uiterst stabiel blijft, zonder vervorming of degeneratie, na meermaals bakken.

GC Initial™ LiSi Press – de REVOLUTIONAIRE PERSKERAMIEK

Stelt u zich een perskeramiek voor dat alle bestaande producten overtreft.Stelt u zich een perskeramiek voor dat sterker en duurzamer is, esthetischer resultaten oplevert en u aanzienlijke laboratoriumtijd bespaart.

Welnu, u hoeft het zich niet meer voor te stellen, want de GC Initial™ LiSi Press is het revolutionaire nieuwe perskeramiek dat een ongeëvenaarde sterkte en een uitzonderlijke esthetiek koppelt aan het grote voordeel van een sneller, gebruiksvriendelijker proces. Er zijn minder stappen, met een meer flexibele procedure, en u zult minstens 15 minuten per restauratie besparen.

HET EERSTE LITHIUMDISILICAAT KERAMIEK MET HDM-TECHNOLOGIE (High Density Micronization)

HDM - High Density Micronization

GC Initial™ LiSi Press heeft een buitgenwoon hoge dichtheid dankzij• geoptimaliseerde componenten• een gepatenteerde innovatieve nieuwe fabricagetechnologie (HDM-technologie)

Eindelijk! Een lithiumdisilicaat keramiek met de esthetiek en sterkte die tandtechnici eisen en die hoogwaardig is

Matrix- viscosi-

teit

Kristal-grootte

Kristal-vorm Optimalisatie

Matrix-stabiliteit

Kristal-dicht heid

Page 3: Press for perfection! - Dental Noord · 2019-12-13 · dhtic heid . GC Initial™ LiSi Press GC Initial™ LiSi Press is geoptimaliseerd voor gebruik in combinatie met het GC Initial™-aanbod,

GC Initial™ LiSi Press

GC Initial™ LiSi Press is geoptimaliseerd voor gebruik in combinatie met het GC Initial™-aanbod, met inbegrip van de reeds bewezen GC Initial™ LiSi verblend-keramiek en GC Initial™ Lustre Pastes NF – onze universele 3D paint-on keramiek, waardoor de esthetiek verder wordt verbeterd in de ruimst mogelijke indicaties. Denk eraan om GC Initial™ LiSi Press met ons tweevoudig hardend hechtend kunstharscement, G-CEM LinkForce™, te gebruiken voor een buitengewoon sterke en duurzame hechting.

Voordelen van Initial™ LiSi Press:

• Onovertroffen buigsterkte (450 MPa)• Ongeëvenaarde esthetiek

- Rijkere, warmere, helderdere meer heldere kleuren met een uitstekende fluorescentie

- Voorspelbare materiaal- en kleurstabiliteit na herhaald bakken- Geoptimaliseerd voor gebruik met GC Initial LiSi verblendkeramiek

en GC Lustre Pastes NF• Naadloze korte leercurve • Echte tijdwinst• Vrijwel geen reactielaag bij afstoting uitbedden – schoner persen

- Eenvoudige laagverwijdering met glasparelstralen – geen fluorwaterstofzuur

• Lagere oplosbaarheid dan andere toonaangevende merken – permanente glans

• Antagonistvriendelijk en slijtvast

LiSi Press voor een prachtige glimlach

Afbeelding met dank aan tandtechnicus Dino Li, Dr. Rousselet, J-C. Allègre, Frankrijk

Page 4: Press for perfection! - Dental Noord · 2019-12-13 · dhtic heid . GC Initial™ LiSi Press GC Initial™ LiSi Press is geoptimaliseerd voor gebruik in combinatie met het GC Initial™-aanbod,

600

500

400

300

200

100

0

442508

30

25

20

15

10

5

0

5.4

24.2

35

30

25

20

15

10

5

0

11

28

35

30

25

20

15

10

5

0

20

28

Fysische Eigenschappen

GCC R&D Interne testresultaten volgens ISO6872:2015 (niet-gepubliceerde gegevens)

Unsurpassed Flexural Strength Lower solubility than other leading brands Antagonist friendly and wear resistant

GC Initial™ LiSi Press

Slijt

aged

iep

te (μ

m)

Slijtagediepte van HAp na 400.000 abrasieve cycli

Conventionele lithiumdisilicaat perskeramiek

Slijt

aged

iep

te (μ

m)

Slijtagediepte van het materiaal na 400.000 abrasieve cycli

GC Initial™ LiSi Press

Op

losb

aarh

eid

(μg

/cm

²)

Oplosbaarheid voor elk monster onder 4 wt% azijnzuur

Conventionele lithiumdisilicaat perskeramiek

Bia

xial

e st

erkt

e (M

Pa)

Biaxiale buigsterkte van perskeramiek

Conventionele lithiumdisilicaat perskeramiek

GC Initial™ LiSi Press

Nie

t-g

epub

licee

rde

geg

even

s.

Nie

t-g

epub

licee

rde

geg

even

s.

Nie

t-g

epub

licee

rde

geg

even

s.

Tegen GC Initial LiSi Press

Tegen conventionele lithiumdisilicaat perskeramiek

Nie

t-g

epub

licee

rde

geg

even

s.

1/5 de oplosbaarheid van conventio-nele lithiumdisilicaat perskeramiek

LAGE SLIJTAGE

LAGE SLIJTAGE

SLE

CH

TG

OE

D

SLE

CH

TG

OE

D

SLE

CH

TG

OE

D

Hoge sterkte

Page 5: Press for perfection! - Dental Noord · 2019-12-13 · dhtic heid . GC Initial™ LiSi Press GC Initial™ LiSi Press is geoptimaliseerd voor gebruik in combinatie met het GC Initial™-aanbod,

GC Initial™ LiSi Press

GC Initial™ LiSi Press – High Translucency

HT-EXW HT-BLE HT-E57 HT-E58 HT-E59 HT-E60

This

cha

rt is

inte

nded

as

a re

fere

nce

guid

e on

ly

GC Initial™ LiSi Press – Medium Translucency

MT-B00 MT-B0 MT-A1 MT-A2 MT-A3 MT-B1 MT-B2 MT-C1 MT-C2 MT-D2

GC Initial™ LiSi Press – Low Translucency

LT-A LT-B LT-C LT-D

GC Initial™ LiSi Press – Medium Opacity

MO-0 MO-1 MO-2

HT (glazuurvervanging) Transparantie die het beste aansluit bij natuurlijk tandglazuur

MT (pers en stain) Vita*-kleurreeks met warme kleuren van het GC Initial-aanbod van keramische materialen.

LT (one-bodyconcept A, B, C, D of layering techniek) Compacte kleurreeks volgens het one-bodyconcept.

MO (laagsgewijze opbouw) Dankzij de sterke fluorescentie kan een levensechte kleur worden gereproduceerd bij verblending van GC Initial LiSi-porselein.

Kleurkeuze

• Eenvoudige kleurreeks• Vermindering van de voorraad en de kosten• Voldoende aanpasbaar voor een uiterst esthetische opbouw

Ongeëvenaarde Esthetiek

Verkrijgbaar In 4 Translucenties

Afbeelding met dank aan tandtechnicus M. Picone, België

Trans-parantie-

niveauBleach A1 A2 A3 A3.5 A4 B1 B2 B3 B4 C1 C2 C3 C4 D2 D3 D4

HT HT-EXW HT-BLE HT-E58 HT-E59 HT-E60 HT-E57 HT-E59 HT-E60 HT-E59 HT-E60 HT-E59

MT MT-B00 MT-B0 MT-A1 MT-A2 MT-A3 MT-B1 MT-B2 MT-C1 MT-C2 MT-D2

LT LT-A LT-B LT-C LT-D

MO MO-0 MO-1 MO-2 MO-1 MO-2 MO-1 MO-2

TRA

NSP

AR

AN

TIE

HOOG

LAAG

Page 6: Press for perfection! - Dental Noord · 2019-12-13 · dhtic heid . GC Initial™ LiSi Press GC Initial™ LiSi Press is geoptimaliseerd voor gebruik in combinatie met het GC Initial™-aanbod,

Verwerking En Indicaties

VERWERKINGSTECHNIEK INDICATIES

Staining-techniek

Cut-back-techniek

Laagsgewijze opbouwtechniek

Veneers Inlays Onlays Kronen 3-delige bruggen

HT

MT

LT

MO

Afbeelding met dank aan tandtechnicus G. Quini, Spanje

Afbeelding met dank aan tandtechnicus D. Ibraimi, Zwitserland

Page 7: Press for perfection! - Dental Noord · 2019-12-13 · dhtic heid . GC Initial™ LiSi Press GC Initial™ LiSi Press is geoptimaliseerd voor gebruik in combinatie met het GC Initial™-aanbod,

GC Initial™ LiSi Press

Natuurlijke lichtdynamiek

Fluorescentie begint vanaf het interne frame

MO-O-gelaagd met GC Initial LiSi

Conventionele lithiumdisilicaat perskeramiek

GC Initial™ LiSi Press

Afbeelding met dank aan Simone Maffei, Italië

Conventional lithium disilicate

press ceramicMT-A2

GC Initial™ LiSi Press MT-A2

Levendige en lichtere kleurtinten

Afbeelding met dank aan tandtechnicus S. Roosen, Oostenrijk

Natuurlijke opalescentie

Gereflecteerde licht Doorgelaten licht

HT-BLE HT-Bleach 1

HT-E57 HT-Bleach 2

HT-E58 HT -Bleach 3

HT-E59 HT -Bleach

MO-0 CLF +FD-91

FD-93IN-44

CL-F D-A2 + EOP + E-58 + TO

Page 8: Press for perfection! - Dental Noord · 2019-12-13 · dhtic heid . GC Initial™ LiSi Press GC Initial™ LiSi Press is geoptimaliseerd voor gebruik in combinatie met het GC Initial™-aanbod,

Ongeëvenaarde Esthetische Systeembenadering

Geoptimaliseerd voor gebruik met GC Initial LiSi verblendkeramiek en GC Lustre Pastes NF, voor sterkere geperste kronen!

Afbeeldingen met dank aan tandtechnicus M. Brüsch, Duitsland

Page 9: Press for perfection! - Dental Noord · 2019-12-13 · dhtic heid . GC Initial™ LiSi Press GC Initial™ LiSi Press is geoptimaliseerd voor gebruik in combinatie met het GC Initial™-aanbod,

GC Initial™ LiSi Press

0.15mm

0.50mm

1.00mm

0.30mm

200µm 200µm

Stabiliteit Gedurende Meerdere Bakcycli

Om de marge te simuleren, werd een exemplaar met rand herhaaldelijk gebakken. Perfecte stabiliteit zonder barsten na meermaals bakken.

GC Initial™ LiSi PressVóór het bakken

GC Initial™ LiSi PressNa het bakken

Resultaten na 5 bakcycli (770° C 1 min, hechting). Test uitgevoerd door Masayuki Hoshi, RDT

GC Initial™ LiSi Press Conventional lithium disilicate press ceramic

Superieure Polijstbaarheid

GC Initial™ LiSi PressGepolijst oppervlak (2e keer polijsten)

Conventioneel lithiumdisilicaat perskeramiekGepolijst oppervlak (2e keer polijsten)

Vergelijking van de glans na het polijsten met diamantpasta100

90

80

70

60

50

40

30

20

10

0

NaF 30 min 1e keer polijsten

2e keer polijsten

GC Initial™ LiSi Press Conventioneel lithiumdisilicaat perskeramiek

Werkwijze:Het oppervlak van elk product polijsten na het NaF-etsen met behulp van een zacht Robinsonpenseel* met Zirkon Brite* onder dezelfde omstandigheden (8.000 tpm).

Nie

t-g

epub

licee

rde

geg

even

s.

Gla

ns (%

)

Page 10: Press for perfection! - Dental Noord · 2019-12-13 · dhtic heid . GC Initial™ LiSi Press GC Initial™ LiSi Press is geoptimaliseerd voor gebruik in combinatie met het GC Initial™-aanbod,

Inbedden & Persen

Moeiteloos inbedden

• Eenvoudige verwijdering van de reactielaag – geen fluorwaterstofzuur

• Hoge vloeibaarheid• Lange verwerkingstijd.• Stabiele uithardingstijd

- Meer flexibele oventijd- Tijdbesparingen – ideaal voor laboratorium

workflow- Bredere perscapaciteit door robuustere

inbedmassa- Betere interne aanpassing

Het is gewoon eenvoudiger te gebruiken

Er is slechts een minimale reactielaag bij GC LiSi PressVest en deze kan eenvoudig worden verwijderd met door het wegstralen met glasparels. Er is geen gevaarlijk fluorwaterstofzuur of aluminiumoxide nodig. Een belangrijk element in de inhibitie van de reactielaag is GC LiSi PressVest SR-vloeistof (oppervlaktebehandeling), die lichtjes licht verneveld wordt in de diepdruk aan de binnenkant van de kronen wordt gesproeid vóór het inbedden.

Reactielaag op de inbedmassa

Gc Initial™ Lisi Press-SYSTEEM

Conventionele lithiumdisilicaat perskeramiek

Afbeelding met dank aan tandtechnicus M. Brüsch, Duitsland

Page 11: Press for perfection! - Dental Noord · 2019-12-13 · dhtic heid . GC Initial™ LiSi Press GC Initial™ LiSi Press is geoptimaliseerd voor gebruik in combinatie met het GC Initial™-aanbod,

-

-

GC Initial™ LiSi Press

Het Geheim Van Gc Lisi PressvestMINDER ONTSTAAN VAN DE REACTIELAAG EN GEMAKKELIJKER TE VERWIJDEREN

Door het gebruik van een uniek oplosmiddel in het inbedmassapoeder en de GC LiSi PressVest SR-vloeistof wordt een opening of “afscheurlijn” gecreëerd, waardoor de reactielaag gemakkelijk wordt voorkomen.

Gc Lisi Pressvest Sr-Vloeistof

wordt verneveld aan de binnenkant van de kroon, waarin er gewoonlijk een

sterkere reactielaag is.

Conventionele lithiumdisilicaat perskeramiek

Reactielaag:Hybride laag bestaande uitinbedmassa en persmateriaal

Inbedmassa Persmateriaal PersmateriaalReactielaag

Stralen

Gladde, schone pers

GC Initial™ LiSi Press

Creëert een “afscheurlijn”

Inbedmassa Persmateriaal

StralenAlleen glasparel-stralen

Persmateriaal

Reaction Layer

Page 12: Press for perfection! - Dental Noord · 2019-12-13 · dhtic heid . GC Initial™ LiSi Press GC Initial™ LiSi Press is geoptimaliseerd voor gebruik in combinatie met het GC Initial™-aanbod,

Hoge Vloeibaarheid En Lange Verwerkingstijd

5 min na het mengen1 min na het mengen

GC LiSi PressVestConventionele inbedmassa voor conventioneel

lithiumdisilicaat perskeramiek

1 min na het mengen 3 min na het mengen

TIJD TOT HET DE INGEBEDDE STRUCTUUR IN DE UITBRANDOVEN WORDT GEPLAATST

20 min tot 180 min

De inbedmassa kan in de oven worden geplaatst met een marge van wel 160 minuten.

30 min tot 45 min

De inbedmassa kan in de oven worden geplaatst met slechts een marge van 15 minuten.

Page 13: Press for perfection! - Dental Noord · 2019-12-13 · dhtic heid . GC Initial™ LiSi Press GC Initial™ LiSi Press is geoptimaliseerd voor gebruik in combinatie met het GC Initial™-aanbod,

GC Initial™ LiSi Press

Tijdbesparing

PERSEN UITBEDDEN GLASPAREL-

STRALEN

FLUOR-WATERSTOF-

ZUUR

STRALEN MET ALUMINIUM-

OXIDE AFWERKEN

PERSEN UITBEDDEN GLASPAREL-

STRALEN AFWERKEN

GC Initial™ LiSi Press

Conventionele lithiumdisilicaat perskeramiek

Bespaarde tijd: 15-20 minuten. Geen fluorwaterstofzuur nodig.

Afbeelding met dank aan tandtechnicus M. Brüsch, Duitsland

Page 14: Press for perfection! - Dental Noord · 2019-12-13 · dhtic heid . GC Initial™ LiSi Press GC Initial™ LiSi Press is geoptimaliseerd voor gebruik in combinatie met het GC Initial™-aanbod,

41.9 40.833.8

22.1

45

40

35

30

25

20

15

10

5

0

Onovertroffen Randaansluiting

GC Initial™ LiSi Press Conventioneel lithiumdisilicaat perskeramiek Perfecte randaansluiting

Afbeelding met dank aan tandtechnicus A. Hodges, VS

Initial™ LiSi Press/G-CEM LinkForce Conventioneel lithiumdisilicaat perskeramiek met speciaal

bevestigingscement

Hec

htst

erkt

e (M

Pa)

THERMISCHE CYCLUS n T.C. 0n T.C. 5,000

Sterke en duurzame hechting

Afbeelding met dank aan tandtechnicus S. Maffei, Italië

Zwakste punt, gevoelig voor

chipping

Dat

a o

n fil

e.

Page 15: Press for perfection! - Dental Noord · 2019-12-13 · dhtic heid . GC Initial™ LiSi Press GC Initial™ LiSi Press is geoptimaliseerd voor gebruik in combinatie met het GC Initial™-aanbod,

GC Initial™ LiSi Press

Casussen met Initial™ LiSi, keramiekgamma

Casus van tandtechnicus Mirko Picone, België

Casus van tandtechnicus S. Maffei, Italië

Casus van tandtechnicus O. Yildirim en dr. S. Tavas, Turkije

Casus van tandtechnicus M. Bladen, VKCasus van tandtechnicus P. Llobell, Frankrijk

Casus van tandtechnicus C. De Gracia, Spanje Casus van tandtechnicus J-C Allègre en dr. Rousselet, Frankrijk

Casus van tandtechnicus C. Fischer, Duitsland

Casus van tandtechnicus B. Marais, VS Casus van tandtechnicus P. Brito, Portugal

Page 16: Press for perfection! - Dental Noord · 2019-12-13 · dhtic heid . GC Initial™ LiSi Press GC Initial™ LiSi Press is geoptimaliseerd voor gebruik in combinatie met het GC Initial™-aanbod,

GC Initial™ LiSi Press – Verpakking

GC EUROPE N.V.Head OfficeResearchparkHaasrode-Leuven 1240Interleuvenlaan 33B-3001 LeuvenTel. +32.16.74.10.00Fax. [email protected]://www.gceurope.com

GC BENELUX B.V. Edisonbaan 12 NL-3439 MN Nieuwegein Tel. +31.30.630.85.00Fax. [email protected] http://benelux.gceurope.com z

L LF

NL

7 69

03/

17

901448 GC Initial™ LiSi Press, MO-0, 3g x 5

901449 GC Initial™ LiSi Press, MO-1, 3g x 5

901450 GC Initial™ LiSi Press, MO-2, 3g x 5

901428 GC Initial™ LiSi Press, HT-EXW, 3g x 5

901429 GC Initial™ LiSi Press, HT-BLE, 3g x 5

901430 GC Initial™ LiSi Press, HT-E57, 3g x 5

901431 GC Initial™ LiSi Press, HT-E58, 3g x 5

901432 GC Initial™ LiSi Press, HT-E59, 3g x 5

901433 GC Initial™ LiSi Press, HT-E60, 3g x 5

901434 GC Initial™ LiSi Press, MT-B00, 3g x 5

901435 GC Initial™ LiSi Press, MT-B0, 3g x 5

901436 GC Initial™ LiSi Press, MT-A1, 3g x 5

901437 GC Initial™ LiSi Press, MT-A2, 3g x 5

901438 GC Initial™ LiSi Press, MT-A3, 3g x 5

901439 GC Initial™ LiSi Press, MT-B1, 3g x 5

901440 GC Initial™ LiSi Press, MT-B2, 3g x 5

901441 GC Initial™ LiSi Press, MT-C1, 3g x 5

901442 GC Initial™ LiSi Press, MT-C2, 3g x 5

901443 GC Initial™ LiSi Press, MT-D2, 3g x 5

901444 GC Initial™ LiSi Press, LT-A, 3g x 5

901445 GC Initial™ LiSi Press, LT-B, 3g x 5

901446 GC Initial™ LiSi Press, LT-C, 3g x 5

901447 GC Initial™ LiSi Press, LT-D, 3g x 5