elektronika dasar

22
1 Elektronika Dasar FET (Field Effect Transistor) Transistor Efek Medan

Upload: dena

Post on 06-Jan-2016

69 views

Category:

Documents


0 download

DESCRIPTION

Elektronika Dasar. FET (Field Effect Transistor) Transistor Efek Medan. Ideal Voltage-Controlled Current Source. Representasi : Karakteristik Volt Ampere :. Junction Field Effect Transistor. Simbol : JFET Kanal p. Simbol : JFET Kanal n Karakteristik Volt Ampere JFET. - PowerPoint PPT Presentation

TRANSCRIPT

Page 1: Elektronika Dasar

1

Elektronika Dasar

FET (Field Effect Transistor)Transistor Efek Medan

Page 2: Elektronika Dasar

Ideal Voltage-Controlled Current Source

Representasi :

Karakteristik Volt Ampere :

2

i2

v1

gmv1 RL

v2vi

V22

v1 i2

I2

v2

V2

t

t t

LR

V22

V22(V)

QIQ

VQ

Page 3: Elektronika Dasar

Junction Field Effect Transistor

Simbol : JFET Kanal n

Karakteristik Volt Ampere JFET

3

G

D

S

iD

iS

iG

+

-

+

-

VDS

VGS

Simbol : JFET Kanal p

G

D

S

iD

iS

iG

+

-

+

-

VDS

VGS

ID

VDS

VGS=0

VGS=0,2

VGS=-0,5

VGS=-1

VGS=-1,5

Daerahsaturasi

Daerah Non saturasi (ohmic)

Daerah Breakdown

Page 4: Elektronika Dasar

4 Kondisi operasi dari JFET :1. Kondisi Non saturasi (Ohmic Region)2. Kondisi saturasi (pinch off region)3. Kondisi Breakdown4. Kondisi Cutoff

x

2b(x)

W

2a

S

G

IG

I S

I D

D

VDD

VGG

Kanal n

Gerbang p

Junction Field Effect Transistor

4

G

D

S

iD

iS

iG +

-

VDS VDD

VGG

Page 5: Elektronika Dasar

Junction Field Effect Transistor

JFET pada kondisi Non saturasi (ohmic region) Berlaku :

Dimana : 2b = sisa lebar kanal setelah ada depletion regionW = lebar L = Panjang kanal

Pada kondisi ini JFET akan berperilaku seperti resistor yang nilainya bergantung pada VGS

ID bergantung pada W/L yang disebut sebagai faktor skala arus dari JFET

Rasio perbandingan disebut sebagai ON drain resistance ,

untuk VGS = 0 maka b=a dan berlaku :

5

x

2b(x)

W

2a

S

G

IG

I S

I D

D

VDD

VGG

Kanal n

Gerbang p

L

WbqNbWqNEAqNI nDnDxnDD 22

W

L

aqNr

nDONDS 2

1)(

)(ONDSD

DS rI

V

Page 6: Elektronika Dasar

Junction Field Effect Transistor

JFET pada kondisi Saturasi (Pinch off region) Jika |VGS |< |VP| dan diberikan tegangan pada drain – source (VDS)

maka : VDS akan menimbulkan medan listrik Ex sepanjang x yang mengakibatkan

lebar kanal b(x) akan mengecil. Pada kondisi ini maka Densitas arus (J) pada JFET :

Dari persamaan diatas dapat dilihat bahwa selama |VGS| < |VP| maka total pinch-off (b=0) tidak dapat terjadi karena akan mengakibatkan densitas arus yang tak terhingga.

Karakteristik volt ampere JFET pada daerah saturasi menunjukkan bahwa nilai ID relatif konstan sehingga dapat disimpulkan bahwa JFET tidak berperilaku sebagai resistor seperti pada daerah non saturasi.

Saturasi pada JFET mengandung pengertian bahwa terdapat pembatasan jumlah muatan yang yang dipindahkan sehingga ID nilainya relatif konstan.

Karena nilai arus ID relatif konstan maka JFET dapat digambarkan seperti sumber arus tak bebas yang dikendalikan oleh tegangan.dimana : VGS = v1 ; i2 = ID dan VDS = v2 (lihat gambar ideal voltage – controlled curren source)

6

)(2 xb

IJ D

Page 7: Elektronika Dasar

Junction Field Effect Transistor

JFET pada kondisi breakdown Nilai tegangan maksimum yang dapat diberikan pada JFET adalah nilai

tegangan minimum yang akan mengakibatkan avalanche breakdown. Dari karakteristik volt ampere JFET dapat diketahui bahwa untuk nilai

reverse biased VGS yang semakin besar maka kondisi breakdown terjadi untuk nilai VDS yang lebih rendah.

JFET pada kondisi cutoff Pada kondisi ini maka JFET akan berperilaku seperti open switch Pada kondisi tegangan |VGS| > |VP|, maka ID ≈ 0 dan VDS dapat bernilai

besar. Karakteristik Volt Ampere JFET Kanal N

7

ID

VDS

VGS=0

VGS=0,2

VGS=-0,5

VGS=-1

VGS=-1,5

Daerahsaturasi

Daerah Non saturasi (ohmic)

Daerah Breakdown

IDSS

Karakteristik Volt Ampere JFET Kanal n

Page 8: Elektronika Dasar

Junction Field Effect Transistor

Karakteristik fungsi transfer VGS dan ID JFET Kanal N:

Dimana : ID = Arus drain IDSS = arus drain pada JFET dalam kondisi saturasi dengan terminal

Gate dan Source di hubung singkat (short circuit)

8

2

1

P

GSDSSD V

VII

-VGS

ID

VP

IDSS

Karakteristik VGS ID Pada JFET Kanal n

Page 9: Elektronika Dasar

Metal Oxide Semiconductor FET (MOSFET)

Bagan Depletion MOSFET Depletion MOSFET kanal N

Fungsi dari oksida logam (misal : silikon dioksida) adalah berfungsi sebagai isolator dan memungkinkan pengendalian karakteristik dari kanal melalui medan listrik yang timbul karena adanya beda potensial antara gate dengan semikonduktor.

9

D(+)GS

n n

body

Kanal n

substrat tipe p

- - - - - - - - - - - - - - - - - -

SilikonDioksida

(SiO2)

----

++++

++++

----

Page 10: Elektronika Dasar

Metal Oxide Semiconductor FET (MOSFET)

Simbol :

10

D

G

S

Depletion Mosfet tipe N(Depletion NMOS)

B

substrat

D

G

S

Depletion Mosfet tipe P(Depletion PMOS)

B

substrat

Page 11: Elektronika Dasar

Metal Oxide Semiconductor FET (MOSFET)

Depletion Mosfet kanal n (Depletion NMOS) Mode Pengosongan (Depletion)

Dari bagan dapat dilihat bahwa bila tegangan VGS semakin negatif maka jumlah muatan dalam kanal akan berkurang sebagai akibat terbentuknya lapisan pengosongan pada kanal

Nilai VGS negatif yang terbesar yang menyebabkan kanal dikosongkan secara total disebut tegangan threshold (VT). Kondisi ini serupa dengan kondisi “pinch-off” pada JFET

Untuk suatu nilai negatif VGS dan (|VGS| < |VT|), maka peningkatan tegangan VDS akan menyebabkan MOSFET berada dalam kondisi saturasi dan ID akan relatif konstan dan ID < IDSS (Arus ID pada saat Gate dan Source dihubung singkat)

11

D(+)GS

n n

body

Kanal n

D (+)G(-)S

n n

body

substrat tipe p

Kanal n

substrat tipe p

SilikonDioksida

(SiO2)- - - - - - - - - - - - - - - - - -

- - - - - - - - - - - -

Page 12: Elektronika Dasar

Metal Oxide Semiconductor FET (MOSFET)

Depletion MOSFET kanal n (Depletion NMOS) Mode Peningkatan (Enhancement)

Pada model ini maka VGS akan diberikan tegangan positif sehingga jumlah muatan dalam kanal akan bertambah.

Untuk suatu nilai VGS positif, peningkatan tegangan VDS akan menyebabkan MOSFET berada dalam kondisi saturasi dan arus ID akan relatif konstan dan ID > IDSS (Arus ID pada kondisi Gate dan source dihubung singkat)

12

D(+)GS

n n

body

Kanal n

D (+)G(+)S

n n

body

substrat tipe p

Kanal n

substrat tipe p

SilikonDioksida

(SiO2)- - - - - - - - - - - - - - - - - -

- - - - - - - - - - - - - - - - - - - - -

Page 13: Elektronika Dasar

Karakteristik Volt Ampere MOSFET kanal N (Depletion NMOS)

MOSFET : Jenis : Depletion MOSFET kanal n (Depletion NMOS) k = 20μA/V2 ; W/L = 1 ; VT = -2 V Asumsi : channel length modulasi diabaikan sehingga nilai ID

konstan pada kondisi saturasi

VDS (V)

VGS=-1,050

100

150

200

250

300

1 2 3 4 5 6

-0,5

0

+0,5

+1,0

+1,5

VGS=+2,0

Enhancement

Depletion

ID (μA)2

DSD VL

WkI

Metal Oxide Semiconductor FET (MOSFET)

13

22 DSDSTGSD VVVVL

WkI

• Kondisi Non Saturasi :

• Kondisi Saturasi :

DSTGSD IVVL

WkI

2

Dimana :k = process parameter L = Panjang kanalW = Lebar kanal dengan panjang

kanal L

Page 14: Elektronika Dasar

Karakteristik Fungsi transfer VGS dan ID Depletion MOSFET kanal N

MOSFET: Depletion MOSFET kanal n (Depletion NMOS) k = 20μA/V2 ; W/L = 1 ; VT = -2 V

Dimana :k = process parameter L = Panjang kanalW = Lebar kanal dengan panjang

kanal L

Metal Oxide Semiconductor FET (MOSFET)

14

VGS (V)

50

100

150

200

250

300

1 2-3 3

Enhancement

ID (μA)

-1-2

Depletion

VT

IDSS

• Kondisi VGS < VT :• ID ≈ 0

2)( TGSD VVL

WkI

• Kondisi VGS > VT ; VDS = VGS-VT ; VDS ≥ 0

Page 15: Elektronika Dasar

Metal Oxide Semiconductor FET (MOSFET)

Enhancement MOSFET Bagan Enhancement MOSFET

Simbol :

15

DGS

L

body

Region tipe n

DGS

L

body

substrat tipe p

Region tipe p

substrat tipe n

SilikonDioksida

D

G

S

D

G

S

Enhancement Mosfet tipe P(Enhancement PMOS)

Enhancement Mosfet tipe N(Enhancement NMOS)

B

substrat

B

substrat

Page 16: Elektronika Dasar

Metal Oxide Semiconductor FET (MOSFET)

Enhancement MOSFET kanal N (Enhancement PMOS)

Enhancement MOSFET Kanal n (Enhancement NMOS) Tegangan positif pada Gate akan menginduksikan muatan negatif pada

permukaan semikonduktor dan membentuk “lapisan inversi” yang kemudian membentuk kanal n, jika tegangan positif pada Gate lebih besar dari tegangan threshold VT.

Jika diberikan tegangan pada Drain (VDS > 0)maka arus ID akan mengalir melalui kanal.

Jika besar VDS bertambah maka beda potensial antara gate dan drain akan berkurang sehingga akan mengurangi konduktivitas dekat daerah drain, pada kondisi ini maka Enhancement MOSFET akan masuk pada daerah saturasi.

Pada daerah saturasi nilai ID akan relatif konstan untuk penambahan nilai VDS.

16

DG (+)S

Region tipe n

D (+)G (+)S

substrat tipe p

Region tipe n

substrat tipe p

SilikonDioksida

- - - - - - - - - - - - - - - - - -

B(body)

B(body)

- - - - - - - - - - - - -

Page 17: Elektronika Dasar

Karakteristik Fungsi Transfer VGS dan ID Enhancement MOSFET kanal n (Enhancement NMOS)

Mosfet memiliki : Enhancement MOSFET kanal n (Enhancement NMOS)

k = 20μA/V2 ; W/L = 1 ; VT = 2 V Asumsi : channel length modulasi diabaikan

sehingga nilai ID konstan pada saturasi

• Kondisi VGS > VT ; VDS = VGS-VT ; VDS ≥ 0 :

Metal Oxide Semiconductor FET (MOSFET)

17

VGS (V)

50

100

150

200

250

300

1 2 43

ID (μA)

65

VT

• Kondisi VGS < VT :• ID ≈ 0

2)( TGSD VVL

WkI

Dimana :k = process parameter L = Panjang kanalW = Lebar kanal dengan panjang

kanal L

Page 18: Elektronika Dasar

Metal Oxide Semiconductor FET (MOSFET)

Karakteristik Enhancement MOSFET kanal n (Enhancement NMOS)

Mosfet memiliki : Enhancement MOSFET kanal n (Enhancement NMOS) k = 20μA/V2 ; W/L = 1 ; VT = 2 V Asumsi : channel length modulasi diabaikan sehingga nilai ID

konstan pada saturasi

18

VDS (V)

VGS= 3,050

100

150

200

250

300

1 2 3 4 5 6

3,5

4

4,5

5,0

5,5

VGS=6,0

Ohmic RegionID (μA) Saturation

VGS=2 V

2DSD V

L

WkI

22 DSDSTGSD VVVV

L

WkI

• Kondisi Non Saturasi :

• Kondisi Saturasi :

DSTGSD IVVL

WkI

2

Dimana :k = process parameter L = Panjang kanalW = Lebar kanal dengan panjang

kanal L

Page 19: Elektronika Dasar

Metal Oxide Semiconductor FET (MOSFET)

Enhancement MOSFET Kanal N (Enhancement NMOS)

Dari bagan dan karakteristik volt ampere dapat diketahui bahwa : Lapisan inversi (kanal) pada VDS = 0 hanya akan muncul jika VGS > VT. Pada VGS <

VT lapisan inversi tersebut tidak akan tersedia dan ID = 0, sehingga VT adalah serupa dengan tegangan pinch off pada JFET. Kondisi ID =0 karena VGS < VT adalah kondisi cut off dari MOSFET.

Pada kondisi non saturasi (ohmic) maka : (VGS – VT > VDS) atau (VGD = VGS – VDS > VT)

Dimana :k = process parameter =

L = Panjang kanalW = Lebar kanal dengan panjang kanal Lμn = mobilitas elektron

Co = gate capacitance (kapasitansi gerbang) per unit area

19

22 DSDSTGSD VVVVL

WkI

2onC

Page 20: Elektronika Dasar

Metal Oxide Semiconductor FET (MOSFET)

Enhancement MOSFET Kanal n (Enhancement NMOS)

Pada daerah saturasi : 0 < VGS – VT < VDS

ID cenderung konstan dan tidak bergantung pada nilai VDS, dan hanya bergantung pada tegangan pengendali (VGS – VT) atau :

Garis pembatas daerah ohmic dan saturasiterjadi pada VDS = VGS – VT dan besar

ID pada tegangan VDS ini adalah :

20

DSTGSD IVVL

WkI

2

2DSD V

L

WkI

VDS (V)

VGS= 3,050

100

150

200

250

300

1 2 3 4 5 6

3,5

4

4,5

5,0

5,5

VGS=6,0

Ohmic RegionID (μA)

Saturation

VGS=2 V

2DSD V

L

WkI

Page 21: Elektronika Dasar

Metal Oxide Semiconductor FET (MOSFET)

Karakteristik Enhancement MOSFET kanal P (Enhancement PMOS)

Dari kurva karakteristik dapat dilihat bahwa PMOS serupa dengan NMOS dengan polaritas VDS dan IDS yang terbalik, dan pembawa muatan dalam PMOS adalah hole.

21

VT

-10

ID (mA)

VGS (V)

-20

-30

-40

-4 -8 -12 -16 -20

-50

• Kondisi VGS < VT ; VDS = VGS-VT ; VDS ≤ 0 :

• Kondisi VGS > VT :• ID ≈ 0

2)( TGSD VVL

WkI

Dimana :k = process parameter L = Panjang kanalW = Lebar kanal dengan panjang

kanal L

Page 22: Elektronika Dasar

Metal Oxide Semiconductor FET (MOSFET)

Karakteristik Enhancement MOSFET kanal P (Enhancement PMOS)

Dari kurva karakteristik dapat dilihat bahwa PMOS serupa dengan NMOS dengan polaritas VDS dan IDS yang terbalik, dan pembawa muatan dalam PMOS adalah hole.

22

VGS= -6

-10 -10

-18

VGS=-20

Ohmic Region

ID (mA)

VGS=-4 V

-20

-30

-40

-10 -20 -30 -40VDS (V)

-16

-14

-12

-8

Saturation

22 DSDSTGSD VVVVL

WkI

• Kondisi Non Saturasi :

• Kondisi Saturasi :

DSTGSD IVVL

WkI

2

Dimana :k = process parameter L = Panjang kanalW = Lebar kanal dengan panjang

kanal L